近日，国家知识产权局发布《集成电路布图设计审查与执法指南修改草案（征求意见稿）》（下称《指南》），拟对现行《指南》进行系统修订。此次修改覆盖登记审查、撤销、行政裁决等多环节，针对企业高频关切的重大修改、实操变化与合规提示，梳理本次修改的核心内容如下：

一、登记审查部分

（一）明确了申请日的确定方式

对于电子申请情形，以符合受理条件的申请文件进入国家知识产权局指定的特定电子系统之日为申请日。这意味着只有在提交满足《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十六条规定的所有条件的申请文件时，才能作为申请日。另外，应提交的集成电路样品，国家知识产权局受理处自收到申请文件之日起15天之内收到的，视为与申请文件同时提交。

对于面交和邮寄情形，新规定以受理部门收到日为申请日。这意味着若申请人将申请文件递交至错误部门或因地址填写错误导致受理部门未能及时收到，由此产生的申请日延后等法律后果由申请人自行承担。

（二）增加了审查内容

旧版指南仅规定了对于申请材料的形式审查，修订稿在此基础上新增了对明显实质性缺陷审查，具体审查内容如下：

1.布图设计名称明显不属于集成电路；

2.复制件或者图样明显符合电路板特征，或者目录中未包含有源元件图层；

3.申请材料请求对思想、处理过程、操作方法或者数学概念进行保护；

4.申请材料中的复制件或图样与其他已提交的复制件或图样完全一致。

申请材料不符合形式审查要求，审查员会发出补正通知书；申请材料不符合明显实质性缺陷审查，审查员会发出审查意见通知书。同一缺陷经多次补正仍不合格的，国家知识产权局可以发出驳回决定；但如果申请人针对审查意见通知书陈述的意见未消除缺陷的，国家知识产权局则可直接驳回。

（三）申请材料新增《独创性声明》

为了适应《集成电路布图设计保护条例》的修改，修订稿新增《独创性声明》作为必要申请文件，并相应要求在复制件或图样中圈示独创性部分，对圈示的区域按顺序编号。对纵向贯通多图层的独创区域可以在多个图层中分别圈示，并标注关联编号。如果某图层整体具有独创性的，可以不必进行圈示。修订稿还对独创性声明提出了以下要求：

1.独创性声明需要使用官方标准表格；

2.应使用规范的技术性语言，说明布图设计所对应集成电路的整体功能。并依次针对每个独创性部分对应的设计区域，对其结构改进等设计要点，所实现的电子、光子或者量子等相应功能，以及其他具有独创性的理由进行说明。

（四）可选提交材料新增《布图设计商业利用信息表》

在申请日之前已经投入商业利用的，可以提交布图设计商业利用信息表，在表中如实记载包含该布图设计的产品的名称、型号以及具体的商业利用方式和范围等。

（五）申请表“功能”新增两个选项

为适应新型集成电路的出现，在申请表的“功能”选项中，新增“集成光子功能”、“集成量子功能”两个选项。

（六）复制件或者图样新增要求

复制件或者图样新增要求包含布图设计总图和分层图。提交的复制件或者图样不能缺失具有实质设计内容的图层。

复制件或者图样缺失部分区域，且根据布图设计中其他区域或者图层的形状、连接关系等无法确定该缺失区域的设计内容的，不能依据该缺失区域主张独创性部分；但能够根据其他区域或者图层的形状、连接关系等确定缺失区域设计内容的除外。

（七）新增费用管理规定

明确各类业务缴费期限，令登记费、复审费、变更费、恢复费时限标准化，补充汇款信息缺失的补救规则，明确汇款信息不全、逾期缴费的处置方式，使企业财务对接流程更规范。

（八）新增查阅文件的规定

目前，通过电子渠道提交的集成电路布图设计申请，不向公众开放查阅。修订稿为此新开了一条查阅渠道：新增电子申请形式提交集成电路布图设计申请的，应当将该布图设计中非保密信息页的图层打印在A4纸上提供查阅。

另外，修订稿重新声明，查询对象仅限于复制件或者图样，含有保密信息的图纸图层、独创性声明等其他申请文件及集成电路样品不允许查阅。

（九）明确了著录项目变更的限制

修订稿明确了对于布图设计创作者的姓名或者名称、集成电路的分类、创作完成时间、首次商业利用时间一般不得进行变更。这意味着上述信息将不再轻易允许变更，申请人需在填写时确保信息的准确性。

二、撤销部分

（一）撤销程序双向开放，任何人可发起撤销

目前虽然任何人均可提交撤销意见，但国家知识产权局审查后决定是否启动程序，启动裁量权在国家知识产权局。修订稿明确将任何人提交的撤销请求规定为强制启动撤销程序。请求人不具备民事诉讼主体资格、不是共有布图设计专有权的所有布图设计权利人、多个请求人共同提出一件撤销请求的情形除外。

但是，允许共有布图设计专有权的所有权利人针对其共有布图设计专有权提出撤销请求。

（二）明确撤销请求人举证期限与限制

请求人在提出撤销请求之日起1个月内补充证据的，应当在该期限内结合该证据具体说明相关的撤销理由。请求人在提出撤销请求之日起1个月后补充证据的，合议组一般不予考虑，除非是针对权利人新提交的反证提交的新证据并说明理由、或者用于完善证据法定形式的公证文书、原件等证据。

（三）细化了独创性判断方法

目前独创性判断模式为独立创作原则、与现有设计不同原则、整体判断原则三原则并列适用，具体适用路径较为模糊。修订稿将判断方法改进为递进适用的模式：首先判断是否为创作者独立创作；若是，则进一步判断其是否属于非公认的常规设计。新模式融入原模式中的“整体判断原则”，并将“整体判断原则”具体化为判断各模块之间的位置、布局和连接关系，使得判断方式更加具体，指引更加明确。

三、行政裁决部分

（一）修改了侵权判定中专有权保护范围的确定

以申请中新要求提交的文件《独创性声明》为基准，重新确定了集成电路布图设计专有权的保护基础。请求人在提出行政裁决请求时，应当指明独创性声明中请求保护的一项或多项独创性部分，作为主张权利的依据。请求人可以在口头审理辩论结束前变更其主张的独创性部分。

（二）删除了“常规设计抗辩”作为不侵权抗辩理由

修改稿删除了“常规设计抗辩”作为不侵权抗辩理由，意味着如果被请求人认为被控侵权设计构成常规设计，则应通过撤销程序提起撤销，而不能直接作为不侵权抗辩的理由。

（三）对于中国实体许可给国外实体的情形新增了提交材料

中国实体允许外国实体使用其布图设计的，应当出具国务院商务主管部门颁发的“技术出口许可证”或者“技术出口合同登记证”，或者地方商务主管部门颁发的“技术出口合同登记证”。

四、企业合规建议

针对新《指南》的修订，企业在合规层面应重点关注申请、撤销、维权等环节的流程重塑与策略调整，并关注后续正式稿发布及实施要求。

在申请阶段，需使用官方表格撰写《独创性声明》，用规范的技术语言清晰说明集成电路的整体功能。在复制件或图样中，需按顺序编号圈示独创性部分。同时，若布图设计在申请日前已投入商业利用，可主动提交《布图设计商业利用信息表》。

在撤销阶段，撤销程序启动向公众开放意味着企业面临的知识产权稳定性风险增加。企业需密切关注竞争对手或第三方可能对自身布图设计提出的撤销请求。同时，企业应及时掌握独创性判断的新标准，并依据此新标准组织证据和理由。

在维权阶段，企业应注意专有权的保护范围以《独创性声明》为准。

另外，需注意中国实体向外国实体许可布图设计时，必须额外出具商务主管部门颁发的“技术出口许可证”或“技术出口合同登记证”，确保流程合规。